产品技术

TGA-321 NH3高精度痕量气体分析仪

      TGA-321 NH3高精度痕量气体分析仪是一款专为半导体行业空气分子污染分析(AMC)测量氨气(NH3)而设计的专业仪器,采用光腔衰荡光谱技术(CRDS),具有很高的灵敏度,其检测下限可达ppt 级别。不需要现场校准,非常适合连续测量。 

      该分析仪内部管路都进行了特殊涂层,可以有效的减小氨气NH3分子在管道壁上的吸附,加快测量的响应速度并消除测量偏差。同时分析仪采用小体积腔设计,能够进一步提升测量速度。

留言咨询

产品特点

       TGA-321 NH3高精度痕量气体分析仪采用的光腔衰荡光谱技术(CRDS)与离子迁移谱(IMS)和离子色谱传统技术相比,具有探测下限低、响应时间短、无需耗材等显著优势,该分析仪具有更优的长期稳定性和低维护性,是半导体行业AMC连续监测的理想选择。
(1)ppt 级别的灵敏度、精度以及准确度
(2)免标定,低漂移
(3)响应时间短 
(4)连续监测
(5)无耗材成本

应用领域

      TGA-321 NH3高精度痕量气体分析仪可广泛应用于半导体行业的洁净室监测,FOUP监测,半导体过程监测等。

咨询电话

0571-85012207

发送邮箱

微信咨询

扫一扫
关注微信

返回顶部

扫一扫关注微信